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    高純納米硅


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    產品簡介

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    高純納米硅

    1. 制備技術:等離子氣相裂解反應

    2. 平均粒度: 60-70納米

    3. 純 度: >4N

    4. 比表面積: >25 m2/g

    5. 雜質含量:

    Al: <1ppm

    Fe: <10ppm

    Ca: <1ppm

    As: <0.05ppm

    B: <0.05ppm

    P: <0.5ppm

    Other <0.05ppm

    123.png

    高純納米氮化硅

    1. 制備技術:等離子氣相裂解反應

    2. 平均粒度: 60-70納米

    3. 純 度: >99%

    4. 比表面積: >22.5 m2/g

    5. 雜質含量:

    N: 36-38%

    O: < 0.8%

    Cl: < 0.8%

    Al: <30ppm

    Fe: <100ppm

    Ca: <10ppm

    Other<1ppm

    2.png

    高純納米氮化鈦

    1. 制備技術:等離子氣相裂解反應

    2. 平均粒度: 20納米

    3. 純 度: >99%

    4. 比表面積: >45 m2/g

    5. 雜質含量:

    N: 21.7-23.25%

    Ti: 76.2-77.76%

    O: < 0.8%

    Cl: < 0.8%

    Al: <30ppm

    Fe: <100ppm

    Ca: <10ppm

    Other<1ppm

    3.png


     
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